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      橢偏儀

      簡要描述:橢偏儀:超薄膜的實時可視化分析測試,實時觀察樣品微觀尺度上的結構。可以測量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數等參數。也可以對薄膜進行區域化(選區)分析,獲得所選區域的成像分析圖。

      • 產品型號:Nanofilm_EP4

      詳細介紹

      品牌其他品牌產地類別進口
      應用領域綜合

      橢偏儀

      超薄膜的實時可視化分析測試,實時觀察樣品微觀尺度上的結構。可以測量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數等參數。也可以對薄膜進行區域化(選區)分析,獲得所選區域的成像分析圖。

      橢偏儀產品特點

      a 自動消光型橢偏分析技術和傳統的顯微鏡技術結合,可視化實時圖像橢偏分析,橫向(X/Y方向)分辨率優于1μm

      a 實時橢偏對比度圖像,實時視頻圖像分析。樣品的所有微結構、缺陷、污染和動態變化過程都將一覽無余。

      a 全畫幅聚焦技術解決了斜角入射導致的全畫幅聚焦問題,適用于動態原位分析測試,如自組裝單分子層的生長和移動、蛋白質相互作用和水面單分子層的漂移等。

      a 光斑切割技術,真正實現超薄透明基底上薄膜的無背底反射橢偏測試。

      基礎參數


      樣品對準

      探測Z方向的位置和傾斜,傾轉軸探測精度:0.001°,Z向精度:1μm

      儀器對準

      光學系統角度傾轉調整,獨立于樣品位置,傾轉軸探測精度:0.001°

      Z軸升降系統

      行程范圍:>100mm,可重復性:lμm

      光源

      低氙弧燈激光光源,噪聲低至0.1%,長壽命10000小時;

      可選單波長激光光源或200-2000nm連續波長光源;

      提供250-1700nm光柵單色器,中段波長精度<1nm,帶寬5/6/12nm;

      可選光斑切割照明模塊,實現透明基底薄膜的無背底反射干擾測量;

      光學成像系統

      聚焦掃描系統,在變角度測量時(<80°)實現實時圖像,兼容所有物鏡,橫向分辨率<1μm;

      全畫幅聚焦圖像/實時視頻,橫向分辨率2μm,工作入射角:52°~57°;

      探測器

      單色千兆網(GigE)CCD相機,波長:360nm-1000nm,1392×1040 px,12位,40幀/秒;

      可選近紅外(NIR)探測相機和紫外線(UV)探測相機;

      可選多相機匹配及切換系統;

      物鏡

      2×-50×物鏡;

      UV/IR物鏡;

      自動轉角儀

      入射角范圍:38°-90°,分辨率:0.001°,角精度:0.01°,轉動速度:-5°/秒

      Z軸自動升降系統

      行程:12cm,可重復性:1μm,分辨率0.5μm

      拓展附件

      表面等離子共振(SPR)單元,固/液界面分析單元,光導液/液界面分析單元,微流控分析單元,溫度控制單元,電化學分析單元等

      聯用技術

      AFM、石英晶體微天平、反射光譜儀、拉曼光譜儀、白光干涉儀等





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